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半導體電子行業(yè) EDI超純水設備

產(chǎn)品簡介

半導體電子行業(yè) EDI超純水設備出水水質(zhì)具有最佳的穩(wěn)定度。能連續(xù)生產(chǎn)出符合用戶要求的超純水,電阻率可達15-18MΩ.cm。

產(chǎn)品型號:
更新時間:2024-09-12
訪問次數(shù):531
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半導體電子行業(yè) EDI超純水設備概述

EDI(Electrodeionization)又稱連續(xù)電除鹽技術,是當今先進的高純水生產(chǎn)技術,它科學地將電滲析技術和離子交換技術融為一體,通過陽、陰離子膜對陽、陰離子的選擇透過作用以及離子交換樹脂對水中離子的交換作用,在電場的作用下實現(xiàn)水中離子的定向遷移,從而達到水的深度凈化除鹽,并通過水電解產(chǎn)生的氫離子和氫氧根離子對裝填樹脂進行連續(xù)再生,因此EDI制水過程不需酸、堿化學藥品再生即可連續(xù)制取高品質(zhì)超純水,它具有技術先進、結構緊湊、操作簡便的優(yōu)點,可廣泛應用于電力、電子、醫(yī)藥、化工、食品和實驗室領域,是水處理技術的綠色革命。

EDI工作原理

供給原水進入EDI系統(tǒng),主要部分流入樹脂/膜內(nèi)部,而另一部分沿膜板外側流動,以洗去透出膜外的離子。

樹脂截留水中的溶存離子。

被截留的離子在電極作用下,陰離子向正極方向運動,陽離子向負極方向運動。

陽離子透過陽離子膜,排出樹脂/膜之外。

陰離子透過陰離子膜,排出樹脂/膜之外。

濃縮了的離子從廢水流路中排出。

無離子水從樹脂/膜內(nèi)流出。

半導體電子行業(yè) EDI超純水設備

產(chǎn)品特性

☆ 出水水質(zhì)具有最佳的穩(wěn)定度。

☆ 能連續(xù)生產(chǎn)出符合用戶要求的超純水,電阻率可達15-18MΩ.cm。

☆ 模塊化生產(chǎn),并可實現(xiàn)全自動控制。

☆ 不需酸堿再生,無污水排放。

☆ 不會因再生而停機。

☆ 無需再生設備和化學藥品儲運。

☆ 設備結構緊湊,占地面積小。

☆ 運行成本和維修成本低。

半導體電子行業(yè) EDI超純水設備

半導體電子行業(yè) EDI超純水設備特點及應用范圍

 設備緊湊、占地面積小(僅為傳統(tǒng)工藝的15%)

 無需再生、可連續(xù)運行

 水的利用率高

 無酸堿排放、無化學污染

 產(chǎn)水品質(zhì)高度穩(wěn)定

 運行成本低廉(僅為傳統(tǒng)工藝的65%)

設備參數(shù)表

規(guī)格

處理量
(T/H)

備注

規(guī)格

處理量
(T/H)

備注

EDI-0.5T

0.5

主機含膜組件、支架
主機管路高壓泵及電控器 。

EDI-1T

1.0

主機含膜組件、支架、
主機管路、高壓泵及電控器

EDI-2T

2.0

EDI-3T

3.0

EDI-4T

4.0

EDI-5T

5.0

EDI-6T

6.0

EDI-7T

7.0

EDI-8T

8.0

EDI-10T

10.0

雙級+EDI工藝流程                                 

半導體電子行業(yè) EDI超純水設備

電子行業(yè)超純水工藝流程

半導體電子行業(yè) EDI超純水設備                             


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